苏州晶淼供应1602湿法蚀刻机

2019/11/11 7:14:09发布172次查看

苏州晶淼供应的湿法蚀刻机
该湿法蚀刻设备，可广泛用于ic生产和半导体元器件生产中晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除硅片表面的有机物.颗粒.金属杂质.自然氧化层及石英.塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。可用于扩散前、光刻后、cmp后及氧化前等工艺的刻蚀清洗。例如：rca清洗、spm清洗、hpm清洗等。

苏州晶淼半导体设备有限公司

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中国苏州

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